FEI Helios NanoLab 650

FEI Helios NanoLab 650 jest wielozadaniowym urządzeniem wyposażonym w system DualBeam^TM pozwalającym na obrazowanie próbek w trybie mikroskopu elektronowego za pomocą detektorów ETD, TLD, EDX, CBS, jak i wycinanie lamel używając działa jonowego. Mikroskop wyposażony jest w moduł RAITH służący do prototypowania elementów w technologii litografii elektronowej i jonowej. Dzięki detektorom ETD TLD i CBS możliwe jest przeprowadzanie badań topografii powierzchni próbki z wykorzystaniem elektronów wtórnych (SE), jak i wstecznie rozproszonych (BSE). Detektor EDX pozwala na uzyskanie dokładnych informacji dotyczących składu chemicznego próbki wykorzystując charakterystyczne promieniowanie rentgenowskie wydzielane z próbki.

Podstawowe parametry techniczne urządzenia FEI Helios NanoLab 650

- napięcie przyspieszające:

              - działo elektronowe 200V-30kV

              - działo jonowe 500V-30kV

- maksymalna rozdzielczość: 0,8nm przy 15kV

- wartość robocza próżni 2,6x10^-6 mbar

- maksymalna wielkość obrazu 6144 x4096px

- maksymalna wielkość próbki d= 150mm o maksymalnej wadze 500g